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东莞市汇成真空科技有限公司
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专家详解真空镀膜机晶格的均匀性

  在20世纪50年代我国就已经研制成功,蒸发镀膜设备的品种繁多,有用于镀制光学薄膜的光学镀膜设备,主要用于,用于装饰装潢、陶瓷玻璃,五金电器,电子器等各行各业。下面我们看看专家是怎么说真空镀膜机晶格均匀性的问题。

  晶格有序度的均匀性决定了薄膜是单晶、多晶、非晶,这也是溅控溅射镀膜机真空镀膜技术中的热点问题。它可以分为两类。

    厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。 

  化学组分上的均匀性也就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。

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